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交会跟踪CCD像机探测合作目标光功率分析
以辐射度量为标准,从CCD像机灵敏度出发,建立了CCD像机探测合作目标光功率模型以及功率方程,得到了所需合作目标光功率与CCD像机参数的制约关系,分析了CCD像机探测到光点所占像元数与传输距离之间的关系,为交会跟踪系统的设计和性能评估提供了理论依据.

倪国强,NI Guo-qiang(北京理工大学光电工程系,北京,100081)
卢欣,LU Xin(北京控制工程研究所,北京,100080)
刊 名: 光电工程 ISTIC PKU 英文刊名: OPTO-ELECTRONIC ENGINEERING 年,卷(期): 2006 33(1) 分类号: V556 关键词: 交会跟踪 合作目标 CCD像机 模型【交会跟踪CCD像机探测合作目标光功率分析】相关文章:
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