硅对镉胁迫下水稻幼苗体内镉分布规律的研究
采用溶液培养,研究不同浓度(0、30、80、130、180 mg/L)的SiO_2在4.0 mg/L CdCl_2浓度胁迫下对水稻幼苗体内镉(Cd)的分布规律.结果表明,在Cd胁迫下Si降低了水稻幼苗根、茎、叶、鞘、共质体和质外体Cd含量,其分布规律为:根＞茎叶＞茎鞘＞叶片,呈现出末端分布规律.说明Si促使大量的Cd累积在根中,根是Cd累积的主要部位,而茎、叶中Cd累积量较少.可见,Si可抑制水稻体内Cd由地下部分向地上部分运输,且能抑制地上部分Cd向叶片运输,并能减少Cd进入共质体.
作 者：
黄秋婵 韦友欢 吴颖珍 HUANG Qiu-chan WEI You-huan WU Ying-zhen
作者单位：
广西民族师范学院化学与生物工程系,广西,崇左,532200
刊 名：
湖北农业科学 ISTIC PKU
英文刊名：
HUBEI AGRICULTURAL SCIENCES
年，卷(期)：
2010 49(2)
分类号：
Q945.78
关键词：
硅(Si) 镉(Cd)胁迫 水稻幼苗 分布规律 silicon(Si) cadmium(Cd) stress rice (Oryza sativa L.) seedling distribution regulation