硅对镉胁迫下水稻幼苗体内镉分布规律的研究

硅对镉胁迫下水稻幼苗体内镉分布规律的研究

采用溶液培养,研究不同浓度(0、30、80、130、180 mg/L)的SiO_2在4.0 mg/L CdCl_2浓度胁迫下对水稻幼苗体内镉(Cd)的分布规律.结果表明,在Cd胁迫下Si降低了水稻幼苗根、茎、叶、鞘、共质体和质外体Cd含量,其分布规律为:根＞茎叶＞茎鞘＞叶片,呈现出末端分布规律.说明Si促使大量的Cd累积在根中,根是Cd累积的主要部位,而茎、叶中Cd累积量较少.可见,Si可抑制水稻体内Cd由地下部分向地上部分运输,且能抑制地上部分Cd向叶片运输,并能减少Cd进入共质体.

作 者： 黄秋婵 韦友欢 吴颖珍 HUANG Qiu-chan WEI You-huan WU Ying-zhen   作者单位： 广西民族师范学院化学与生物工程系,广西,崇左,532200  刊 名： 湖北农业科学  ISTIC PKU 英文刊名： HUBEI AGRICULTURAL SCIENCES  年，卷(期)： 2010 49(2)  分类号： Q945.78  关键词： 硅(Si)   镉(Cd)胁迫   水稻幼苗   分布规律   silicon(Si)   cadmium(Cd) stress   rice (Oryza sativa L.) seedling   distribution regulation  

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