动态离子束混合沉积氧化钽薄膜的微观分析
用动态离子束混合技术在铁基材料表面上制备氧化钽薄膜.用Ar+束溅射沉积薄膜的同时,分别用100 keV,2×1017/cm2的O+离子或100 keV,8×1016/cm2的Ar+进行辐照.对两种工艺下生成的氧化钽薄膜进行了XPS、AES及RBS分析研究,结果发现,Ar+辐照下制备的氧化物薄膜主要由符合化学剂量比的Ta2O5化合物组成,引入的碳污染少.O+辐照下制备的薄膜生成了低价的氧化钽,引入了大量的碳污染.
作 者： 杜纪富 展长勇 黄宁康 DU Ji-fu ZHAN Chang-yong HUANG Ning-kang 作者单位： 辐照物理和技术教育部重点实验室,四川大学原子核科学技术研究所,成都,610064 刊 名： 功能材料与器件学报 ISTIC PKU 英文刊名： JOURNAL OF FUNCTIONAL MATERIALS AND DEVICES 年，卷(期)： 2007 13(6) 分类号： O484.1 O484.5 关键词： 氧化钽薄膜 动态离子束混合 XPS AES