等离子体刻蚀对Nafion(R)膜性能的影响

等离子体刻蚀对Nafion(R)膜性能的影响

介绍了不同等离子体刻蚀条件对用于电解水制氢领域的Nafion(R)117膜的性能影响.测试经表面刻蚀处理的Nafion(R)膜的含水率、交换容量和电解性能,寻找最适用于Nafion(R)膜表面刻蚀的条件.适宜的刻蚀有效地扩大了Nafion(R)膜和催化电极之间的反应界面,并且使电极形成多孔结构,有利于产生的气体从电极上释放,降低槽电压.但过度刻蚀将破坏膜的离子簇,导致气阻增加,引起槽体性能下降.因此应严格控制射频功率和处理时间.

作 者： 唐金库 巴俊洲 蒋亚雄 李军 TANG Jin-ku BA Jun-zhou JIANG Ya-xiong LI Jun   作者单位： 中国船舶重工集团公司第七一八研究所,河北,邯郸,056027  刊 名： 舰船科学技术  ISTIC PKU 英文刊名： SHIP SCIENCE AND TECHNOLOGY  年，卷(期)： 2007 29(6)  分类号： O63.3  关键词： 等离子体刻蚀   Nafion(R)   膜-电极界面  

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