非平衡磁控溅射技术制备用于红外减反射的无氢碳膜
红外减反射保护膜具有特定的厚度要求,如能进一步减小无氢类金刚石膜(DLC)的光学吸收,就能使其在较大厚度时不过分损失光通量而得以广泛应用.从这点来讲,无氢类金刚石膜是一种极具开发潜力的材料.本文采用非平衡磁控溅射技术(UBMS)制备了无氢类金刚石膜,并研究了其厚度均匀性.研究结果表明:该非平衡磁控溅射装置有能力获得大于φ150 mm的均匀性范围.对DLC膜红外透射谱的分析表明,分别在Si和Ge基底表面单面制备的DLC薄膜,其峰值透射率在波数2983/cm时分别为68.83%和63.05%,这一结果接近无吸收碳材料理论上所能达到的值.同时,在5000到800/cm范围内,未发现明显的吸收峰.这些优良的光学特性表明,采用非平衡磁控溅射技术制备的无氢DLC膜可以作为窗口的红外增透保护膜使用.
作 者： 徐均琪 樊慧庆 刘卫国 杭凌侠 XU Jun-qi FAN Hui-qing LIU Wei-guo HANG Ling-xia 作者单位： 徐均琪,XU Jun-qi(西北工业大学材料学院,凝固技术国家重点实验室,陕西,西安,710072;西安工业大学光电工程学院,陕西,西安,710032)樊慧庆,FAN Hui-qing(西北工业大学材料学院,凝固技术国家重点实验室,陕西,西安,710072)
刘卫国,杭凌侠,LIU Wei-guo,HANG Ling-xia(西安工业大学光电工程学院,陕西,西安,710032)
刊 名： 材料科学与工程学报 ISTIC PKU 英文刊名： JOURNAL OF MATERIALS SCIENCE AND ENGINEERING 年，卷(期)： 2007 25(6) 分类号： O484.4 关键词： 类金刚石膜(DLC) 非平衡磁控溅射(UBMS) 厚度均匀性 物理气相沉积(PVD) diamond-like carbon films (DLC) unbalanced magnetron sputtering (UBMS) thickness uniformity physical vapor deposition (PVD)