SiO2/Si衬底上聚苯乙稀薄膜的退湿润过程观测
采用光学显微镜和原子力显微镜观测了光滑SiO2衬底上聚苯乙稀薄膜的退湿润过程. 观测到成核退湿润过程为:初态时,在聚苯乙稀薄膜中出现随机分布的小孔,并且小孔随着时间的增加而逐渐变大,孔的尺寸的变化与时间成正比;终态时观测到聚苯乙稀小球在SiO2衬底上的蜂窝状分布,聚苯乙稀小球的分布与薄膜表面的缺陷密切相关.
作 者： 刘海林 熊锐 李美亚 LIU Hai-lin XIONG Rui LI Mei-ya 作者单位： 武汉大学,物理科学与技术学院,湖北,武汉,430072 刊 名： 物理实验 PKU 英文刊名： PHYSICS EXPERIMENTATION 年，卷(期)： 2009 29(2) 分类号： O484 关键词： 退湿润过程 聚苯乙稀薄膜 SiO2/Si衬底