常压下低折射率纳米多孔二氧化硅薄膜的制备
以正硅酸乙酯(TEOS)为有机醇盐前驱体,采用溶胶-凝胶技术,通过酸/碱二步法控制实验条件,结合低表面张力溶剂替换以及甲基非活性基团置换修饰、超声振荡等,在常压下成功地制备出折射率在1.11～1.27范围内的二氧化硅纳米多孔光学薄膜.制备过程中充分注意到稀释、老化、有机修饰表面、热处理和提拉条件对薄膜都有很大的影响,利用这些因素可以对该纳米薄膜的孔洞率、折射率进行控制,尤其是能制备低折射率薄膜,从而为该薄膜的应用开发奠定基础.采用椭偏仪测量薄膜的厚度和折射率,薄膜中高的孔洞率、低的折射率归结于最终干燥阶段中的弹性回跳.扫描电镜(SEM)观察发现修饰薄膜的表面形貌具有明显的多孔结构.耐磨实验表明所制备的薄膜有良好的机械性能.
作 者： 姚兰芳 沈军 吴广明 王珏 作者单位： 姚兰芳(同济大学,波耳固体物理研究所,上海,200092;上海理工大学,物理系,上海,200093)沈军,吴广明,王珏(同济大学,波耳固体物理研究所,上海,200092)
刊 名： 同济大学学报(自然科学版) ISTIC EI PKU 英文刊名： JOURNAL OF TONGJI UNIVERSITY(NATURAL SCIENCE) 年，卷(期)： 2003 31(9) 分类号： O469 关键词： 低折射率薄膜 溶胶-凝胶 表面修饰 常压