全息光栅光刻胶掩模槽形演化及其规律研究
为了控制全息光栅光刻胶掩模槽形,运用曝光模型和显影模型模拟了掩模的槽形形成过程和变化规律.实验对比了不同曝光量,不同显影浓度,不同空频条件下的掩模槽形,特别是占宽比(光栅齿宽度与光栅周期的比)的情况.实验结果表明,实际槽形与模拟槽形很接近.模拟和实验均发现,在大曝光量、高浓度显影、高空频的光栅条件下所得槽形占宽比较小,槽深主要由原始胶厚决定.
作 者: 陈刚 吴建宏 刘全 CHEN Gang WU Jiang-hong LIU Quan 作者单位: 陈刚,CHEN Gang(南京信息职业技术学院,微电子工程系,南京,210046)吴建宏,刘全,WU Jiang-hong,LIU Quan(苏州大学,信息光学工程研究所,江苏,苏州,215006)
刊 名: 光学技术 ISTIC PKU 英文刊名: OPTICAL TECHNIQUE 年,卷(期): 2008 34(1) 分类号: O436.1 关键词: 衍射光栅 全息光栅掩模 槽形模拟 占宽比控制