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纳米ZnO去除CH3 SH性能的研究

时间：2021-12-13 09:07:09 数理化学论文我要投稿

纳米ZnO去除CH3 SH性能的研究

在常温、常压条件下,考察了平均粒径分别为14.3 nm,21.2 nm,24.1 nm,35.3 nm的ZnO和商品ZnO(约200 nm)对CH3SH的去除性能,通过FTIR和XPS等技术对脱硫反应后的试样进行了表征.结果表明,CH3SH主要以分子形式吸附于纳米ZnO表面,并随纳米ZnO粒径的减小,吸附在纳米ZnO表面上CH3SH的FTIR特征峰和硫物种XPS特征峰逐渐增强,CH3SH在纳米ZnO表面进一步脱质子,反应活性逐渐增大,脱硫性能逐渐提高.说明纳米ZnO的表面结构是影响脱硫性能的主要因素.

纳米ZnO去除CH3 SH性能的研究

作者：邵纯红孙曙光李芬姜安玺王路 Shao Chunhong Sun Shuguang Li Fen Jiang Anxi Wang Lu 作者单位：邵纯红,Shao Chunhong(黑龙江工程学院,土木系,哈尔滨,150050;哈尔滨工业大学市政环境工程学院,哈尔滨150090)

孙曙光,Sun Shuguang(哈尔滨通力电力控制工程有限公司,哈尔滨,150090)

李芬,Li Fen(哈尔滨理工大学化学与环境工程学院,哈尔滨,150040)

姜安玺,王路,Jiang Anxi,Wang Lu(哈尔滨工业大学市政环境工程学院,哈尔滨,150090)

刊名：黑龙江大学自然科学学报 ISTIC PKU 英文刊名： JOURNAL OF NATURAL SCIENCE OF HEILONGJIANG UNIVERSITY 年，卷(期)： 2008 25(3) 分类号： O614.24+1 关键词：纳米ZnO 常温 CH3SH 脱硫

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