脉冲激光退火纳米碳化硅薄膜的拉曼散射研究

脉冲激光退火纳米碳化硅薄膜的拉曼散射研究

采用XeCl准分子激光实现了碳化硅薄膜的脉冲激光晶化,对退火前后薄膜样品拉曼散射谱特征进行了分析,探讨了激光能量密度对纳米碳化硅薄膜结构和物相特性的影响.结果显示晶态纳米碳化硅薄膜的拉曼散射峰相对体材料的特征峰显著宽化和红移,并显示了伴随退火过程存在着硅和碳的物相分凝现象.随着激光能量密度的增大,薄膜的晶化度提高,晶化颗粒增大,而伴随的分凝程度逐渐减小.

作 者： 于威 何杰 孙运涛 朱海丰 韩理 傅广生   作者单位： 河北大学物理科学与技术学院,河北,保定,071002  刊 名： 中国激光  ISTIC EI PKU 英文刊名： CHINESE JOURNAL OF LASERS  年，卷(期)： 2004 31(z1)  分类号： O657.37  关键词： 薄膜物理学   拉曼散射   晶化   激光退火   碳化硅  

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