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ZnO陶瓷靶制备及其薄膜RF溅射工艺研究

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ZnO陶瓷靶制备及其薄膜RF溅射工艺研究

ZnO陶瓷靶制备及其薄膜RF溅射工艺研究

陈祝[1] … 2012-7-20 自然科学论文
  [ZnO陶瓷靶制备及其薄膜RF溅射工艺研究]摘要:利用固相反应制备了直径为70mm,厚度为10~15mm高质量掺杂Li2CO2的ZnO陶瓷靶材,实验了不同摩尔浓度的Li+掺杂对靶材性能的影响,确定了最佳Li+掺杂量为2.2mol%,同时通过在不同温度烧结实验、不同成型压力实验确定了ZnO靶材制备的最佳工艺,并采用所制备的ZnO-Li2.2%陶瓷靶和RF(射频磁控)技术在Si(100)、玻璃(载玻片)、及Pt(111)/Ti/SiO2/Si(100)基片上制备出高度c轴(002)择优取向的ZnO薄膜,其绝缘电阻率ρ为4.12×108Ω·cm,达到了声表面波器件(SAW)的使用要求. 作者: 陈祝[1]  张树人[2]  杜善义[3]  杨成韬[2]  郑泽渔[2]  李波[2]  孙明霞[2] Author: CHEN Zhu[1]  ZHANG Shu-Ren[2]  DU Shan-Yi[3]  YANG Cheng-Tao[2]  ZENG Ze-Yu[2]  LI Bo[2]  SUN Ming-Xia[2] 作者单位: 成都信息工程学院通信工程系,成都,610225;电子科技大学微电子与固体电子学院,成都,610054电子科技大学微电子与固体电子学院,成都,610054哈尔滨工业大学复合材料研究所,哈尔滨,150001 期 刊: 无机材料学报   ISTICEISCIPKU Journal: JOURNAL OF INORGANIC MATERIALS 年,卷(期): 2006, 21(4) 分类号: N304 TB43 关键词: 陶瓷靶    氧化锌薄膜    射频磁控溅射    择优取向    机标分类号: TB3 TF1 机标关键词: 陶瓷靶材    靶制备    薄膜    溅射    工艺研究    ZnO Films    RF Magnetron Sputtering    实验确定    声表面波器件    掺杂量    最佳工艺    择优取向    使用要求    射频磁控    烧结实验    摩尔浓度    固相反应    成型压力    载玻片    电阻率 基金项目: ZnO陶瓷靶制备及其薄膜RF溅射工艺研究[期刊论文]  无机材料学报 --2006, 21(4)陈祝  张树人  杜善义  杨成韬  郑泽渔  李波  孙明霞利用固相反应制备了直径为70mm,厚度为10~15mm高质量掺杂Li2CO2的ZnO陶瓷靶材,实验了不同摩尔浓度的Li+掺杂对靶材性能的影响,确定了最佳Li+掺杂量为2.2mol%,同时通过在不同温度烧结实验、不同成型压力实验确定了ZnO靶材...
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