磁控溅射法制备氮化碳薄膜的研究进展
简要评述了磁控溅射法制备氮化碳(CNx)薄膜的研究进展的现状,以及磁控溅射法制备氮化碳(CNx)薄膜过程中工艺参数对薄膜的结构和性能的影响,展望了氮化碳研究的发展趋势.
作 者: 陈春 刘军 毕凯 陈志刚 李忠学 张兴国 CHEN Chun LIU Jun BI Kai CHEN Zhigang LI Zhongxue Zhang Xingguo 作者单位: 陈春,刘军,李忠学,张兴国,CHEN Chun,LIU Jun,LI Zhongxue,Zhang Xingguo(江苏大学材料学院,镇江,212013)毕凯,BI Kai(镇江船艇学院,镇江,212003)
陈志刚,CHEN Zhigang(江苏工业学院,常州,213100)
刊 名: 材料导报 ISTIC PKU 英文刊名: MATERIALS REVIEW 年,卷(期): 2005 19(z1) 分类号: 关键词: 磁控溅射 氮化碳 薄膜