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工艺技术的新实现-DualCool NexFET功率MOSFET/安捷伦IET仪器注重安全性
作 者： 作者单位： 期 刊： 电子设计应用 Journal： ELECTRONIC DESIGN & APPLICATION WORLD-NIKKEI ELECTRONICS CHINA 年，卷(期)： 2010, 8(2) 分类号：【工艺技术的新实现-DualCool NexFET功率MOSFET/安捷伦】相关文章：
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