光照对半导体电阻率测试的技巧分析论文

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光照对半导体电阻率测试的技巧分析论文

  1.概述

光照对半导体电阻率测试的技巧分析论文

  电阻率是半导体材料的重要特性参数之一。微区薄层电阻的均匀性和电学特性受到越来越多的关注,因此这对材料电阻率测量的精度就有了更高的要求。我们通常使用四探针测试仪测量半导体材料的电阻率。造成测试仪测量产生误差的原因有很多方面,如测试环境的影响、探针的问题、测试设备的校准以及被测对象自身的影响等。本文主要分析光照对测量精度的影响。

  2.光的吸收

  半导体材料通常能强烈地吸收光能,具有数量级约为105cm-1的`吸收系数。吸收系数的大小可以反映半导体材料吸收光能的能力,通常用α来表示。材料吸收光的能力常常与入射光子能量有关。若外界有稳定的一定波长的光照作用在被测硅片表面,半导体材料吸收光辐射能量,从而导致价带中的电子获得足够能量从价带跃迁到导带,在价带中留下空穴,这样在半导体中产生了电子-空穴对,这个过程也被称为本征吸收。要使半导体材料发生本征吸收,入射光子的能量需要满足hν≥Eg的条件,否则电子的跃迁则不能发生。被测硅片样品对不同能量的光子的吸收能力是不同的。图1所示的是硅材料的吸收系数α和入射光子能量hν之间的关系。

  3 .试条件

  测试所用样品的外延层和衬底之间要有pn结隔离,或者外延层的电阻率要比衬底的电阻率小得多。测试仪探针的导电性能要好,与被测材料的接触电势差要小,同时,探针的位置要固定,防止探针游移。

  在测量过程中,电流源提供的电流的相对变化不能超过0.05%。工作电流的选择主要取决于被测样品的电阻率大小。如果选取的工作电流过小,则测量电压的难度将提升;选取较大的工作电流可以测得较高的电压值,这可以提高测量的精确性,但是工作电流过大会使得被测样品发热,样品的电阻率随之发生变化,这又降低了测量的精度。所以为了选取合适的工作电流,需要先获得被测样品的I-V特性关系,根据I-V关系将工作电流控制在线性较好的范围内,这样被测样品的电阻率就不会随着电流的变化有过大变化,测量的精度可以得到保证。

  一般来说,对于具有较大电阻率的样品,工作电流要选得小一些,而电阻率较小的样品则工作电流可以选得大一些。而在确保电流和电压有足够测量精度的前提下,工作电流应当尽可能选得小一些。

  4.光照对测试结果影响的分析

  5.结语

  总体而言,随着入射光子能量的增加,硅样品的吸收系数逐渐增大,即表示材料对光子能量较大或频率较大的光吸收能力较强。当入射的光子能量较大,被测硅样品越能吸收入射光的能量,这样则能产生越多的光生载流子,从而使被测样品的电导率升高,电阻率和方块电阻减小,这样就使得电阻率实际的测量值越偏离标称值。当入射光子能量较小或频率较小时,情况则正好相反。另外当入射光频率一定,光强越强产生的光生载流子也越多,也可以使被测样品的实测电阻值小于标称值。正因为在实际测量时,半导体样品不可避免地会处在一定光照条件下,测量过程中光照条件不一样就会使测量电阻率出现的测量误差有所差异。

  参考文献

  [1] 宗祥福,李川.电子材料实验[M].上海:复旦大学出版社,2004.

  [2] 刘恩科,朱秉升,罗晋生,等.半导体物理学(第四版)[M].北京:国防工业出版社,1994.

  [3] Donald A.Neamen,赵毅强,等.半导体物理与器件(第三版)[M].北京:电子工业出版社,2005.

  [4] 刘新福,孙以材,刘东升.四探针技术薄层电阻的原理及应用[J].半导体技术,2004,(7).

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