钛膜表面氧气氧化层研究

钛膜表面氧气氧化层研究

研究了钼基钛膜表面氧气氧化工艺;用XRD分析了氧气氢化层的物相,其物相随氧化条件而异,含有Ti、TiO2、TiO、Ti2O、Ti3O和Ti6O等多种物相;用XPS研究了氧气氧化层钛的主要价态,其主要价态为+4、+3和+2价;用AES深度剖析研究了氧气氧化层的厚度,并研究了温度、氧气压力和时间对氧气氧化层厚度影响的规律;所有氧气氧化层均不与腐蚀介质发生作用,证明了该氧化层致密连续.

作 者： 刘文科 曹小华 彭述明 龙兴贵 李宏发 杨茂年 张晓红 颜登云 王维笃 杨本福   作者单位： 中国工程物理研究院核物理与化学研究所,绵阳,621900  刊 名： 材料导报  ISTIC PKU 英文刊名： MATERIALS REVIEW  年，卷(期)： 2004 18(5)  分类号：   关键词： 钛膜   表面   氧化层   连续  

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