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点源γ光子穿越特定形状屏蔽层的Monte Carlo计算与模拟
采用Monte Carlo方法对点源γ光子穿越球壳形屏蔽层的问题进行了蒙特卡罗计算与模拟,并用VC++编写了软件对光子运行过程进行模拟,通过对模拟结果γ能谱的分析,显示模拟结果能较好地反映实际光子的运动过程.利用所编软件对不同材料不同厚度的介质进行模拟, 可得出厚度为4cm的铅做介质对光子的屏蔽效果较好.
作 者: 郭生良 葛良全 程锋 GUO Sheng-liang GE Linag-quan CHENG Feng 作者单位: 成都理工大学核技术与自动化工程学院,成都,610059 刊 名: 核电子学与探测技术 ISTIC PKU 英文刊名: NUCLEAR ELECTRONICS & DETECTION TECHNOLOGY 年,卷(期): 2007 27(3) 分类号: O411.2 关键词: 蒙特卡罗模拟 点源 γ能谱【点源γ光子穿越特定形状屏蔽层的Monte Carlo计算与模拟】相关文章:
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