ZnGa2O4纳米晶的制备和结构表征
采用喷射共沉淀法制备了ZnGa2O4纳米晶.XRD、SEM和TEM结构分析结果表明,喷射共沉淀法制备的Zn-Ga2O4纳米晶颗粒细小均匀,形状完整.与化学共沉淀法相比,粒子尺寸明显减小,小于10nm,同时ZnO杂相峰消失.分析了喷射共沉淀法的机理,并对实验结果进行了解释.
作 者: 焦正 刘锦淮 边历峰 钱逸泰 作者单位: 焦正,钱逸泰(中国科学技术大学化学系,安徽,合肥,230061)刘锦淮,边历峰(中国科学院合肥智能机械研究所,安徽,合肥,230031)
刊 名: 功能材料 ISTIC EI PKU 英文刊名: JOURNAL OF FUNCTIONAL MATERIALS 年,卷(期): 2002 33(6) 分类号: O647.11 关键词: 化学共沉淀 纳米晶 ZnGa2O4