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钾修饰的MoO3/SiO2催化剂的XRD和TPR表征

时间:2021-12-09 16:51:26 数理化学论文 我要投稿

钾修饰的MoO3/SiO2催化剂的XRD和TPR表征

采用XRD和TPR测试技术表征了一系列不同K与Mo摩尔比的MoO3/K2O/SiO2催化剂.XRD表征结果显示,随着元素K的加入,多钼物种逐渐被破坏,最终形成了单钼的K2MoO4物种.TPR表征显示,催化剂表面的钼物种有2种结构,即八面体的Mo(Oh)和四面体的Mo(Td).八面体Mo(Oh)的还原峰在770 K附近,而四面体Mo(Td)还原峰在1 000 K附近;无K的MoO3/SiO2催化剂的低温还原峰出现在840 K,少量元素K的添加削弱了Mo与SiO2之间的作用,使得低温还原峰温度降低到770 K附近;随着元素K添加量的进一步增加,Mo(Oh)物种逐渐减少而Mo(Td)物种逐渐增多,从而使得催化剂表面的Mo更难被还原.高硫合成气制甲硫醇的活性随着钼基催化剂八面体(Oh)钼物种的增加而增加.

作 者: 王琪 郝影娟 陈爱平 姚光华 杨意泉 WANG Qi HAO Ying-Juan CHEN Ai-Ping YAO Guang-Hua YANG Yi-Quan   作者单位: 厦门大学化学化工学院,厦门,361005  刊 名: 应用化学  ISTIC PKU 英文刊名: CHINESE JOURNAL OF APPLIED CHEMISTRY  年,卷(期): 2007 24(5)  分类号: O643  关键词: MoO3/K2O/SiO2催化剂   XRD   TPR   高硫合成气   甲硫醇