消像差光栅的理论及实验研究

消像差光栅的理论及实验研究

对消像差光栅进行了理论和实验研究.用光程函数和费马原理研究光栅的成像,用刻槽分布函数表示光栅的刻槽曲率及间距变化.对成像的理论分析表明光栅刻槽分布函数比刻槽间距更容易表达像差,给出了消像差光栅的表达形式.比较了SD、WFA、LPF等光栅的参数优化方法.探讨了消像差光栅密度的干涉测量法,设计了光路,对光栅密度进行了测量.

作 者： 朱向冰 付绍军 叶为全 何世平 刘颖 徐向东 洪义麟   作者单位： 朱向冰(中国科学技术大学,国家同步辐射实验室,安徽,合肥,230029;安徽师范大学,物理系,安徽,芜湖,241000)

付绍军,叶为全,刘颖,徐向东,洪义麟(中国科学技术大学,国家同步辐射实验室,安徽,合肥,230029)

何世平(中国科学技术大学,工程科学学院,安徽,合肥,230027) 

刊 名： 光学精密工程  ISTIC EI PKU 英文刊名： OPTICS AND PRECISION ENGINEERING  年，卷(期)： 2003 11(4)  分类号： O436.1  关键词： 刻槽分布函数   像差   消像差光栅