均匀软X射线多层膜制备方法研究
介绍了基于速度调制技术的均匀软X射线多层膜制备方法,并采用该方法在直径为150mm的平面硅基板上制备出Mo/Si多层膜,其中心波长为13.5nm,膜厚空间非均匀性优于1%,较转盘匀速溅射方法制备的多层膜膜厚空间均匀性提高了近6倍.
作 者: 金春水 林强 马月英 裴舒 曹健林 作者单位: 中国科学院,长春光学精密机械与物理研究所,吉林,长春,130022 刊 名: 强激光与粒子束 ISTIC EI PKU 英文刊名: HIGH POWER LASER AND PARTICLE BEAMS 年,卷(期): 2003 15(5) 分类号: O434.14 关键词: 软X射线 多层膜 磁控溅射 均匀性