十八烯反应膜的制备及其微观摩擦学性能研究
通过紫外激发在氢终止的单晶硅表面制得了十八烯的反应膜,并采用接触角测定仪、红外光谱仪、椭圆偏光仪及原子力显微镜等表征了薄膜的结构和摩擦学特性.结果表明,在紫外光照射下,十八烯在硅表面通过键合生成有序反应膜,从而降低硅表面的粘着能和减小摩擦.
作 者: 周金芳 任忠海 杨生荣 作者单位: 周金芳,杨生荣(中国科学院兰州化学物理研究所,固体润滑国家重点实验室,甘肃,兰州,730000)任忠海(哈尔滨纺织科学研究所,黑龙江,哈尔滨,150070)
刊 名: 摩擦学学报 ISTIC EI PKU 英文刊名: TRIBOLOGY TRIBOLOGY TRIBOLOGY TRIBOLOGY 年,卷(期): 2002 22(5) 分类号: O623.121 TH117.3 关键词: 十八烯 反应膜 氢终止硅表面 AFM