pH值对聚四氨基酞菁钴膜电化学和紫外光谱性质的影响

pH值对聚四氨基酞菁钴膜电化学和紫外光谱性质的影响

用循环伏安法在导电玻璃(ITO)和玻碳电极(GC)上制备了聚氨基酞菁钴(CoTAPc)修饰电极(CoTAPc/GC).探讨了pH值对CoTAPc膜的光谱和电化学性质的影响,发现其氧化还原电位与pH值有线性关系,电催化活性也随酸度的增加而增加.CoTAPc膜的紫外吸收带变化与溶液pH值及在溶液中浸泡时间有关.

作 者： 武冬梅 郭黎平 杜锡光 丛芳地 崔秀君   作者单位： 东北师范大学化学学院,长春,130024  刊 名： 分析化学  ISTIC SCI PKU 英文刊名： CHINESE JOURNAL OF ANALYTICAL CHEMISTRY  年，卷(期)： 2003 31(8)  分类号： O65  关键词： 四氨基酞菁钴   电聚合   酸度   循环伏安法   紫外光谱   化学修饰电极  

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