痕量镎和钚的ICP-MS分析方法

时间:2023-04-27 21:00:32 数理化学论文 我要投稿
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痕量镎和钚的ICP-MS分析方法

经TOA萃取色层柱分离环境样品,2次上柱,将Np和Pu同时洗脱,239Pu的化学回收率为 (92.7±3.1)%,237Np为(96.8±2.7)%,实现了ICP-MS同时测定痕量Np和Pu的含量.应用稀释剂242Pu,通过同位素稀释ICP-MS法测量痕量239Pu和240Pu的含量,用IAEA标样对方法进行验证,Pu 的测定值与标样的推荐值吻合较好(标样中无Np的标准值),证明了ICP-MS同时测定痕量Np和Pu的可行性.

作 者: 吉艳琴 李金英 JI Yan-qin LI Jin-ying   作者单位: 吉艳琴,JI Yan-qin(中国疾病预防控制中心,辐射防护与核安全医学所,北京,100088)

李金英,LI Jin-ying(中国核工业集团公司,北京,100822) 

刊 名: 核化学与放射化学  ISTIC PKU 英文刊名: JOURNAL OF NUCLEAR AND RADIOCHEMISTRY  年,卷(期): 2008 30(2)  分类号: O657.63  关键词: 电感耦合等离子体质谱(ICP-MS)   环境样品   痕量   镎   钚   同位素稀释法  

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