折射率可调疏水型SiO2光学薄膜的制备研究

折射率可调疏水型SiO2光学薄膜的制备研究

以正硅酸乙酯(TEOS)为有机醇盐前驱体,采用溶胶-凝胶技术,通过控制制备条件,结合三甲基氯硅烷(TMCS)对SiO2胶粒表面的修饰过程,制备出折射率可调的疏水型SiO2薄膜.对薄膜采用了不同的后处理方式,研究了氨和水蒸气混合气体热处理技术对薄膜疏水性能的影响.采用椭偏仪、FTIR和接触角测试仪对薄膜的折射率、红外特性、接触角等的测试研究表明:疏水型SiO2薄膜的折射率可在1.35～1.20之间连续可调,与传统热处理相比,混合气氛热处理使薄膜的折射率略有增加,在所研究的范围内折射率平均增加0.02左右;SiO2胶粒表面的亲水性OH基团可基本被非活性CH3基团代替,薄膜的疏水能力得到进一步提高;接触角由未作表面修饰时的40°左右增加到表面修饰并结合混合气氛热处理的137°左右.

作 者： 马建华 吴广明 魏建东 程银兵 孙琪 沈军 王珏   作者单位： 同济大学,波耳固体物理研究所,上海,200092  刊 名： 原子能科学技术  ISTIC EI PKU 英文刊名： ATOMIC ENERGY SCIENCE AND TECHNOLOGY  年，卷(期)： 2002 36(4)  分类号： O484  关键词： 溶胶-凝胶   SiO2疏水薄膜   表面修饰   氨处理  

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