CVD金刚石膜产业化制备技术研究
为了解决化学气相沉积金刚石膜产业化进程中存在的生长速率慢、沉积尺寸小的难题,自行研制了适宜于大尺寸金刚石膜高速生长的电子辅助热灯丝式化学气相沉积(EAHFCVD)装置,通过反应气体中加氧将碳源浓度提高到10%以上,并优化反应压力与直流偏流密度二参数间的匹配,研究了该装置的生产特性,同时利用SEM、XRD和Raman光谱对沉积的金刚石膜进行了分析表征.研究结果表明,应用该装置高质量金刚石膜的沉积尺寸可达?100 mm以上,生长速率达到约10 μm/h的水平,并制备出?100 mm×1.5 mm的完整金刚石自支撑膜片,该技术可满足产业化生产的要求.
梅军,李力,季锡林(西南结构力学研究所,四川,绵阳,621900)
刊 名： 材料科学与工艺 ISTIC EI PKU 英文刊名： MATERIALS SCIENCE AND TECHNOLOGY 年，卷(期)： 2003 11(1) 分类号： O484 关键词： 热灯丝 CVD金刚石 大尺寸 高速生长