热丝CVD金刚石薄膜制备及碳纳米管形核作用的研究
利用热丝化学气相沉积法(HF-CVD)进行了金刚石薄膜制备和碳纳米管形核作用的研究.获得了制备金刚石薄膜的优化工艺参数.利用碳纳米管作为形核前驱获得了高质量的金刚石薄膜,其沉积速率可达2.5 μm/h,晶粒生长完美,而且没有出现聚晶现象.研究了碳纳米管涂料质量对薄膜沉积特性的影响,并对其机理进行了初步探讨.
作 者: 侯亚奇 庄大明 张弓 吴敏生 刘家浚 作者单位: 清华大学机械工程系,北京,100084 刊 名: 真空科学与技术学报 ISTIC EI PKU 英文刊名: VACUUM SCIENCE AND TECHNOLOGY 年,卷(期): 2002 22(1) 分类号: O484.1 关键词: 金刚石薄膜 热丝化学气相沉积 碳纳米管 形核前驱