直流磁控溅射法制备TiO2薄膜的研究
论术采用直流磁控溅射法制备TiO2薄膜的实验研究. 研究了氧流量、基片温度对制备TiO2薄膜的影响, 并测量了薄膜的晶相结构和表面形貌, 结果表明制备出了具有锐钛矿晶体结构的TiO2薄膜.
作 者: 刘子丽 肖峻 蒋向东 孙继伟 LIU Zi-li XIAO Jun JIANG Xiang-dong SUN Ji-wei 作者单位: 刘子丽,肖峻,LIU Zi-li,XIAO Jun(西南民族大学电气信息工程学院,成都,610041)蒋向东,孙继伟,JIANG Xiang-dong,SUN Ji-wei(电子科技大学光电信息学院,成都,610054)
刊 名: 西南民族大学学报(自然科学版) ISTIC 英文刊名: JOURNAL OF SOUTHWEST UNIVERSITY FOR NATIONALITIES(NATRUAL SCIENCE EDITION) 年,卷(期): 2009 35(6) 分类号: O48 关键词: TiO2薄膜 直流磁控溅射 氧流量 基片温度