自持金刚石厚膜上沉积生长ZnO薄膜及发光特性
采用磁控溅射在自持CVD金刚石厚膜的成核面上制备了ZnO薄膜,并实验研究了其生长特性和发光特性随O2和Ar流量的变化.利用X射线衍射(XRD)、光致发光(PL)光谱、电子探针(EPMA)和霍尔测量对样品进行了检测.结果表明,在O2/Ar比值约为1时沉积得到的ZnO薄膜取向较一致,呈现高阻的状态并且发光性能最好.
作 者： 孙剑 白亦真 谷建峰 刘明 张庆瑜 姜辛 SUN Jian BAI Yi-zhen GU Jian-feng LIU Ming ZHANG Qing-yu JIANG Xin 作者单位： 孙剑,白亦真,刘明,张庆瑜,SUN Jian,BAI Yi-zhen,LIU Ming,ZHANG Qing-yu(大连理工大学,三束材料改性国家重点实验室,辽宁,大连,116023;大连理工大学,物理与光电工程学院,辽宁,大连,116023)谷建峰,姜辛,GU Jian-feng,JIANG Xin(大连理工大学,三束材料改性国家重点实验室,辽宁,大连,116023)
刊 名： 发光学报 ISTIC PKU 英文刊名： CHINESE JOURNAL OF LUMINESCENCE 年，卷(期)： 2008 29(3) 分类号： O482.31 关键词： 声表面波滤波器 金刚石 ZnO薄膜 磁控溅射