脉冲激光沉积(PLD)薄膜技术的研究现状与展望
综述了脉冲激光沉积(PLD)薄膜技术的研究现状,并按照研究方向将整个研究领域分为三个部分:PLD法沉积薄膜的机理,PLD的工艺研究以及PLD法沉积的主要薄膜材料,分别进行了阐述,对相关的研究工作提出了建议,并对PLD技术的应用前景做了展望.
作 者: 戢明 宋全胜 曾晓雁 作者单位: 华中科技大学激光技术国家重点实验室,武汉,430074 刊 名: 真空科学与技术学报 ISTIC EI PKU 英文刊名: VACUUM SCIENCE AND TECHNOLOGY 年,卷(期): 2003 23(1) 分类号: O848 关键词: 脉冲激光沉积 激光激发等离子体 液滴 颗粒物