氟掺杂的氧化锌薄膜的结构和光学特性
通过热氧化氟化锌(ZnF2)薄膜的方法制备出氟掺杂的多晶ZnO薄膜,ZnF2薄膜是利用电子束蒸发方法沉积在Si(100)衬底得到的.利用X射线衍射和X射线电子能谱研究了ZnF2薄膜向ZnO的转变过程.实验结果表明,在400℃退火30 min的条件下能够获得六方纤锌矿结构的ZnO:F薄膜.对ZnO:F薄膜的室温光致发光谱可以观察到位于379 am、半峰全宽为73 meV的紫外发射峰,而相应于缺陷的深能级发射则完全猝灭.表明ZnO中残留的F能够有效地增强激子的发光,同时使缺陷发光强度明显降低.对F掺杂对ZnO的发光性能的影响进行了讨论.
作 者： 马剑钢 刘益春 徐海阳 骆英民 张吉英 吕有明 申德振 范希武 作者单位： 马剑钢,张吉英,吕有明,申德振,范希武(中国科学院长春光学精密机械与物理研究所,激发态物理重点实验室,吉林,长春,130033)刘益春(中国科学院长春光学精密机械与物理研究所,激发态物理重点实验室,吉林,长春,130033;东北师范大学,先进光电子功能材料研究中心,吉林,长春,130024)
徐海阳,骆英民(东北师范大学,先进光电子功能材料研究中心,吉林,长春,130024)
刊 名： 发光学报 ISTIC PKU 英文刊名： CHINESE JOURNAL OF LUMINESCENCE 年，卷(期)： 2004 25(5) 分类号： O472.3 O482.31 关键词： ZnO:F X射线衍射 X射线光电子能谱 光致发光