钛合金表面离子束增强沉积MoS2基膜层及其性能

钛合金表面离子束增强沉积MoS2基膜层及其性能

将离子束增强沉积（IBED）技术与离子束溅射沉积技术相结合，在钛合金表面制备了MoS2， MoS2-Ti复合膜。研究了膜层的形态、结构、膜基结合强度、硬度、摩擦学性能及抗微动（fretting）损伤性能。结果表明：所获膜层较纯溅射膜结合强度高、致密性好，复合膜中允许的金属元素含量大。通过恰当地控制复合膜中Ti的含量，可获得以（002）基面择优取向的MoS2-Ti复合膜，该膜层有较好的减摩和抗磨综合性能，能够显著地改善钛合金的常规磨损、微动磨损（FW）和微动疲劳（FF）性能，特别是在磨损严重的大位移整体滑移条件下， MoS2-Ti复合膜对钛合金FF抗力的提高作用可大于喷丸形变强化处理。

作 者： 刘道新 唐宾 陈华 何家文 LIU Dao-xin TANG Bin CHEN Hua HE Jia-wen   作者单位： 刘道新,LIU Dao-xin(西北工业大学民航工程学院,)

唐宾,TANG Bin(太原理工大学表面工程研究所,)

陈华,何家文,CHEN Hua,HE Jia-wen(西安交通大学) 

刊 名： 中国有色金属学报  ISTIC EI PKU 英文刊名： THE CHINESE JOURNAL OF NONFERROUS METALS  年，卷(期)： 2001 11(3)  分类号： O484  关键词： 钛合金   离子束增强沉积   MoS2复合膜   摩擦磨损   微动疲劳   喷丸强化  

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