蓝光相变光盘的多层膜结构设计
为了使光盘获得优良的记录/读出性能并能够长期稳定地使用,必须优化设计相变光盘的多层膜结构.采用自行设计的模拟分析相变光盘读出过程设计软件,从光学角度出发模拟计算了蓝光(405 nm)相变光盘的膜层结构,研究了多层膜系的反射率和反射率对比度等光学参量与各层膜厚度和槽深的关系.研究得出的最佳多层膜结构为:下介电层/记录层/上介电层/反射层的厚度对于台记录为100 nm/10 nm/25 nm/60 nm,而对于槽记录则为140 nm/15 nm/30 nm/60 nm,槽深为50 nm.模拟计算结果对于将来高密度蓝光相变光盘的制备具有一定的指导意义.
作 者： 刘波 阮昊 干福熹 作者单位： 中国科学院上海光学精密机械研究所,上海,201800 刊 名： 光学学报 ISTIC EI PKU 英文刊名： ACTA OPTICA SINICA 年，卷(期)： 2003 23(12) 分类号： O438 关键词： 薄膜光学 相变光盘 蓝光 多层膜结构