波导模场分布采用模式匹配的PML处理方法
理想匹配层(PML)是近年来迅速发展起来的一种非常有效的吸收边界.本文基于模式匹配法将PML吸收边界条件用于平面光波导结构计算中,从理论上分析了PML吸收边界条件的有效性,并在PML边界条件下模拟计算了一个三段平面光波导结构的模场分布.
作 者： 徐旻 杨盈莹 XU Min YANG Ying-ying 作者单位： 安徽理工大学,安徽,淮南,232001 刊 名： 电光与控制 ISTIC PKU 英文刊名： ELECTRONICS OPTICS & CONTROL 年，卷(期)： 2007 14(2) 分类号： V271.4 TN011 关键词： 理想匹配层(PML) 边界条件 模式匹配 模场分布