气相沉积制备硬质薄膜技术与应用述评

气相沉积制备硬质薄膜技术与应用述评

本文对气相沉积技术的发展与最新趋势给出了述评,重点强调了等离子体辅助化学气相沉积(PCVD)的优势、进展及其在工模具领域的应用.

作 者： 马胜利 徐可为 介万奇   作者单位： 马胜利(西北工业大学金属凝固技术国家重点实验室,西安,710072;西安交通大学金属材料强度国家重点实验室,西安,710049)

徐可为(西安交通大学金属材料强度国家重点实验室,西安,710049)

介万奇(西北工业大学金属凝固技术国家重点实验室,西安,710072) 

刊 名： 真空科学与技术学报  ISTIC EI PKU 英文刊名： VACUUM SCIENCE AND TECHNOLOGY  年，卷(期)： 2002 22(6)  分类号： O484  关键词： 气相沉积技术   硬质薄膜   PCVD  

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