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二氧化钒薄膜研究的最近进展

时间:2021-12-10 12:30:43 数理化学论文 我要投稿

二氧化钒薄膜研究的最近进展

VO2在68℃左右发生低温半导体态到高温金属态的相变,其电学和光学性质发生突变,在热、电开关和光存储介质方面有着广泛的应用.然而钒和氧作用生成的薄膜是钒的各种价态的氧化物如VO、V2O3、VO2、V2O5的混合体,要得到纯的VO2很难.人们做了很多工作来研究其电气化学的性质,并用了多种方法来镀制VO2薄膜.通过对VO2一些有代表性的研究成果,从薄膜制备、降低相变温度以及VO2应用前景等几个主要方面来介绍了VO2研究最近的一些进展.

二氧化钒薄膜研究的最近进展

作 者: 刘金城 鲁建业 田雪松 掌蕴东 袁萍 王骐   作者单位: 哈尔滨工业大学,可调谐激光技术国家重点实验室,黑龙江,哈尔滨,150001  刊 名: 哈尔滨工业大学学报  ISTIC EI PKU 英文刊名: JOURNAL OF HARBIN INSTITUTE OF TECHNOLOGY  年,卷(期): 2002 34(4)  分类号: O436  关键词: 二氧化钒   相变温度   薄膜制备