热处理对NiP/CoNiP薄膜织构和磁性能的影响
用化学镀的方法制取了NiP/CoNiP薄膜并将样品进行真空热处理.用XRD、VSM、EDS等测试手段分析了热处理影响薄膜结构和磁性能变化的原因.结果发现,热处理使薄膜的结构发生了由α-Co向β-Co的同素异构转变;经热处理后晶粒尺寸长大到30 nm左右;经350 ℃热处理后薄膜的矫顽力升高到5.57×104 A/m;经400 ℃热处理后矩形比达到0.28.
作 者： 张巧红 郑鹉 马亮 陈庆永 ZHANG Qiao-hong ZHENG Wu MA Liang CHEN Qing-yong 作者单位： 张巧红,郑鹉,陈庆永,ZHANG Qiao-hong,ZHENG Wu,CHEN Qing-yong(首都师范大学物理系,北京,100037)马亮,MA Liang(首都师范大学化学系,北京,100037)
刊 名： 电子元件与材料 ISTIC PKU 英文刊名： ELECTRONIC COMPONENTS & MATERIALS 年，卷(期)： 2007 26(6) 分类号： O484 关键词： 电子技术 薄膜 热处理 磁性能 结构