用IR及XPS研究Photo-CVD SiO2薄膜特性
在低温下采用以低压Xe气激发真空紫外光作光源,以SiH4和O2作为反应气体的直接光CVD技术在硅衬底上成功地淀积出SiO2薄膜.用红外光谱分析发现,薄膜中未出现与Si-H、Si-OH相应的红外吸收峰,Si-O伸缩振动所对应的吸收峰峰位在1 054~1 069 cm-1之间;通过高频C-V特性曲线计算出SiO2-Si系统中固定氧化物电荷密度在2×1010~3×10 11cm-2范围内;XPS分析表明,SiO2薄膜中Si的2p能级结合能为103.6 eV,界面处亚氧化硅的总含量为每平方厘米3.72×1015个原子.
作 者: 刘玉荣 李观启 黄美浅 作者单位: 华南理工大学应用物理系,广东,广州,510640 刊 名: 华南理工大学学报(自然科学版) ISTIC EI PKU 英文刊名: JOURNAL OF SOUTH CHINA UNIVERSITY OF TECHNOLOGY(NATURAL SCIENCE EDITION) 年,卷(期): 2003 31(7) 分类号: O484.4 关键词: 光CVD SiO2薄膜 红外光谱 XPS C-V特性