掺杂Gd2O3对ZrO2薄膜负非均匀性的影响

掺杂Gd2O3对ZrO2薄膜负非均匀性的影响

ZrO2膜层具有明显的负非均匀性,严重影响了在光学薄膜制备中的应用,特别是对多层增透膜有明显的影响.通过对膜层微观结构及生长成核过程的研究,揭示了ZrO2膜层负非均匀性产生的原因及特点.基于此,在ZrO2膜料中掺如一定量的Gd2O3膜料,在电子束蒸发和适当的真空度、淀积速率、基底温度等工艺条件下,明显地降低了ZrO2膜层折射率的负非均匀性,从而提高ZrO2膜层光学使用性能.

作 者： 薛锦 王平秋 刘琼 代礼密 XUE Jin WANG Pingqiu LIU Qiong DAI Limi   作者单位： 西南技术物理研究所,四川,成都,610041  刊 名： 光学仪器  ISTIC 英文刊名： OPTICAL INSTRUMENTS  年，卷(期)： 2009 31(6)  分类号： O484  关键词： 光学薄膜   负非均匀性   膜料固相混合   膜层微观结构  

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