掺杂Gd2O3对ZrO2薄膜负非均匀性的影响
ZrO2膜层具有明显的负非均匀性,严重影响了在光学薄膜制备中的应用,特别是对多层增透膜有明显的影响.通过对膜层微观结构及生长成核过程的研究,揭示了ZrO2膜层负非均匀性产生的原因及特点.基于此,在ZrO2膜料中掺如一定量的Gd2O3膜料,在电子束蒸发和适当的真空度、淀积速率、基底温度等工艺条件下,明显地降低了ZrO2膜层折射率的负非均匀性,从而提高ZrO2膜层光学使用性能.
作 者： 薛锦 王平秋 刘琼 代礼密 XUE Jin WANG Pingqiu LIU Qiong DAI Limi 作者单位： 西南技术物理研究所,四川,成都,610041 刊 名： 光学仪器 ISTIC 英文刊名： OPTICAL INSTRUMENTS 年，卷(期)： 2009 31(6) 分类号： O484 关键词： 光学薄膜 负非均匀性 膜料固相混合 膜层微观结构