室温下制备的ZnO/Ag/ZnO多层膜的性能
采用射频磁控溅射ZnO陶瓷靶、直流磁控溅射Ag靶的方法在室温下制备了不同厚度的ZnO/Ag/ZnO多层膜.对样品进行了研究.结果表明:随着Ag层厚度的增加,ZnO(002)衍射峰的强度先增加后减小,Ag(111)衍射峰的强度增强,ZnO/Ag/ZnO多层膜的面电阻先减小后趋于稳定.ZnO膜厚度增加,Ag膜易形成晶状结构,ZnO/Ag/ZnO多层膜的透射峰向长波方向移动.ZnO(60 nm)/Ag(11 nm)/ZnO(60 nm)膜在554 nm处的透过率高达92.3%,面电阻为4.2 Ω/□,品质常数ψГC最佳,约40×10-3/Ω.
作 者： 李俊 闫金良 胡振彦 孙学卿 LI Jun YAN Jin-liang Hu Zhen-yan SUN Xue-qing 作者单位： 鲁东大学,物理与电子工程学院,山东,烟台,264025 刊 名： 电子元件与材料 ISTIC PKU 英文刊名： ELECTRONIC COMPONENTS AND MATERIALS 年，卷(期)： 2007 26(11) 分类号： O484.4 关键词： 复合材料 磁控溅射 多层膜 光电性质