聚阿魏酸修饰电极的电化学特性及电催化性能
研究了阿魏酸在玻碳电极表面电聚合成膜的方法和条件,测量了应用电化学方法制备不同厚度的阿魏酸修饰电极的循环伏安行为及其它电化学性质.对厚度为0.5μm的阿魏酸膜,测得的电子转移系数为0.49,表观电极反应速率常数(ks)为6.56s-1.扩散系数DR为7.9×108cm2@s-1,Do为4.48×108cm2@s-1.该修饰电极对烟酰胺腺嘌呤二核苷酸(NADH)氧化具有很好的催化作用.NADH浓度在0.01~5.0mmol@dm-3范围内与峰电流呈现良好的线性关系.
作 者: 张玉忠 赵红 袁倬斌 作者单位: 中国科学技术大学研究生院化学部,北京100039 刊 名: 物理化学学报 ISTIC SCI PKU 英文刊名: ACTA PHYSICO-CHIMICA SINICA 年,卷(期): 2002 18(9) 分类号: O646 关键词: 烟酰胺腺嘌呤二核苷酸(NADH) 阿魏酸 修饰电极 玻碳电极 电聚合 电催化