Fe-Al-N薄膜的制备和磁性能
用双离子束溅射法在(100)硅片和NaCl单晶基片上制备出FeAlN薄膜,研究了主源气氛和基片温度对FeAlN薄膜的结构及磁性能的影响.在基片温度较高或主源中氮的含量较低时,FeAlN薄膜有较高的饱和磁化强度Ms.加入Al使薄膜的晶粒细化,也使其矫顽力下降,热稳定性提高.在500℃退火后,Al的原子分数为10.0%的FeAlN薄膜仍具有较好的软磁性能,饱和磁化强度Ms和矫顽力He分别为2.02 T和0.96 kA/m.
作 者： 诸葛兰剑 吴雪梅 姚伟国 作者单位： 苏州大学 刊 名： 材料研究学报 ISTIC EI PKU 英文刊名： CHINESE JOURNAL OF MATERIALS RESEARCH 年，卷(期)： 2003 17(2) 分类号： O484 关键词： 金属材料 磁性能 离子束溅射 FeAlN薄膜 热稳定性