溅射功率对多层膜质量的影响
用磁控溅射技术制备薄膜,用X射线衍射研究在基片和靶间距离固定的情况下不同的溅射功率对薄膜结构的影响.结果表明:过低的溅射功率下淀积的薄膜有畸变的X射线衍射特征峰,特征峰强度小,半峰全宽大.而比较高溅射功率得到的薄膜有比较尖锐的X射线衍射特征峰,强度高和半峰全宽非常窄.研究表明,X射线衍射特征峰强度小和半峰全宽大的薄膜结构疏松,而强度高和半峰全宽非常窄的薄膜结构致密.
作 者： 冯仕猛 赵海鹰 窦晓鸣 范正修 邵建达 作者单位： 冯仕猛,赵海鹰,窦晓鸣(上海交通大学物理系,上海,200240)范正修,邵建达(中国科学院上海光学精密机械研究所,上海,201800)
刊 名： 光学学报 ISTIC EI PKU 英文刊名： ACTA OPTICA SINICA 年，卷(期)： 2002 22(11) 分类号： O484.4+1 关键词： 磁控溅射 溅射功率 薄膜