电子回旋共振等离子体增强化学气相沉积a-CFx薄膜的化学键结构

电子回旋共振等离子体增强化学气相沉积a-CFx薄膜的化学键结构

使用CHF3和C6H6混合气体做气源，在一个电子回旋共振等离子体增强化学气相沉积装置中制备了氟化非晶碳(a-CFx)薄膜。利用发射光谱研究了等离子体中形成的各种碳-氟、碳-氢基团随放电宏观参量的变化规律，对薄膜做了傅里叶变换红外光谱和X射线光电子能谱分析，证实等离子体中的CF2，CF和CH基团是控制薄膜生长、碳/氟成分比和化学键结构的主要前驱物。

作 者： 宁兆元 程珊华 叶超 NING Zhao-yuan Cheng Shan-Hua Ye Chao   作者单位： 苏州大学物理系,  刊 名： 物理学报  ISTIC SCI PKU 英文刊名： ACTA PHYSICA SINICA  年，卷(期)： 2001 50(3)  分类号： O4  关键词： 氟化非晶碳薄膜   电子回旋共振等离子体  

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