电子束辐照PET薄膜制备有序多孔阵列高分子模板
本文用掩膜工艺电子束蚀刻技术产生具有潜影的聚酯(PET)薄膜,经强氧化液(浓硫酸与重铬酸钾的混合液)腐蚀,产生有序微米多孔阵列PET模板.讨论了辐照剂量、腐蚀时间以及腐蚀温度等因素对基膜蚀刻和腐蚀的影响.结果表明:随着辐照剂量、腐蚀温度和腐蚀时间的增加,PET基膜更易被腐蚀.IR、DSC测量结果表明:辐照导致化学键的断裂、非晶化转变,是导致辐照PET薄膜的腐蚀失重率增加的原因.用此方法制备了孔径大小一致的微米级有序多孔阵列PET模板.
作 者： 郝旭峰 周瑞敏 吴新锋 周菲 邓邦俊 费舜廷 HAO Xufeng ZHOU Ruimin WU Xinfeng ZHOU Fei DENG Bangjun FEI Shunting 作者单位： 上海大学射线应用研究所,上海,201800 刊 名： 核技术 ISTIC PKU 英文刊名： NUCLEAR TECHNIQUES 年，卷(期)： 2007 30(11) 分类号： O633.14 O571.33 Q691.2 关键词： 模板 PET 掩膜 电子束蚀刻 腐蚀