8.0 nm反射式偏振膜的设计和制备
讨论了软X射线反射式偏振膜的设计原理和方法,利用设计软件模拟设计了8.0 nm处的Mo/B4C偏振膜.对影响多层膜性能的参量进行了详细的误差分析.利用磁控溅射镀膜机进行了偏振膜的制备研究,X射线小角衍射测量了多层膜的周期厚度,测量数据的拟合结果与设计值吻合很好.
作 者： 吕超 易葵 邵建达 L(U) Chao YI Kui SHAO Jian-da 作者单位： 中国科学院上海光学精密机械研究所薄膜中心,上海,201800 刊 名： 光子学报 ISTIC PKU 英文刊名： ACTA PHOTONICA SINICA 年，卷(期)： 2007 36(11) 分类号： O434.14 关键词： 多层膜 软X射线 偏振 准布儒斯特角