磁控溅射技术制备ZnO透光薄膜
采用RF磁控溅射方法,在玻璃衬底上制备了择优取向的ZnO薄膜;通过台阶仪、X射线衍射技术、原子力显微镜和分光光度计分别测量了不同溅射功率条件下淀积的ZnO薄膜厚度(淀积速率)、结晶质量、表面形貌与粗糙度、透光光谱,报道了该薄膜结晶质量、薄膜粗糙度与其在可见光区透光率的关系.
作 者： 俞振南 姜乐 熊志华 郑畅达 戴江南 江风益 YU Zhen-nan JIANG Le XIONG Zhi-hua ZHENG Chang-da DAI Jiang-nan JIANG Feng-yi 作者单位： 南昌大学,教育部发光材料与器件工程研究中心,江西,南昌,330031 刊 名： 南昌大学学报（理科版） ISTIC PKU 英文刊名： JOURNAL OF NANCHANG UNIVERSITY(NATURAL SCIENCE) 年，卷(期)： 2007 31(5) 分类号： O782+.9 关键词： ZnO 磁控溅射 透光光谱 粗糙度 溅射功率